近日,德国光学组件和传感器系统供应商闯别苍辞辫迟颈办斥资千万欧元,投资了一种新的电子束(贰-叠别补尘)光刻系统。据悉,新的电子束系统将由总部位于德国业纳的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH公司研制,将于2022年中期在德国德累斯顿工厂投入使用。该系统是开发和生产下一代超精密传感器的核心部件,这对进一步开发DUV和在半导体生产过程中建立高精度EUV晶片曝光至关重要。
Jenoptik表示,新的电子束光刻系统能在300mm大小的基底上实现精度约10纳米的光刻(约为毛发直径的1/ 2000)。Jenoptik把这项技术作为超精密微光学制造的主要使能器,这是其传感器业务的功能核心。改进后的电子束光刻系统通过精度和灵活性的提高,为未来半导体曝光技术所需的传感器奠定了技术基础。
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